无线电厂芯片制造车间里，南园电子厂的三十名工程师仍然在跟着刘工努力学习着光刻机的使用技巧。
或许当初看光刻机使用步骤会觉得非常简单，无非就是涂胶、曝光、冲洗，最后刻蚀完事，这能有什么难的？可当后来刘工分步骤的一步步给他们讲解，才让他们明白这里面的门道有多深。
就拿第一步的涂胶来说，字面意思就是给硅片上涂一层光刻胶，因为光刻实际就是刻的这些光刻胶，而不是硅片。
这些光刻胶被特定波长的光照就会被溶解清除，再放进特定的化学溶剂里浸泡，最终得出自己想要的硅片，一次光刻就此完成。
听起来好像很简单，可涂胶不是摊煎饼果子，也不会允许你拿个小铲子给光刻胶抹匀，事实上那样也根本抹不匀。
一般都是通过高速旋转利用离心力的作用完成，虽然期间绝大部分的光刻胶会被甩出去浪费掉，但却能保证光刻胶的绝对均匀。
“但就算这样你仍然不能保证把光刻胶涂好，因为胶体在离心力的作用下很容易在硅片周围堆积甚至是流到背面，我们为了避免这种情况，在涂光刻胶的同时要进行不断的吹风，最后还要进行去边处理。”
听着刘工的讲课，大多数工程师都很蒙圈，他们很久没有这么高强度的学习，注意力有点跟不上了。
除此之外他们也是真没想到光刻能这么复杂，这还只是第一步的涂胶，还没开始光刻呢，就这么复杂了？
刘工倒是很能理解他们的状态，毕竟隔行如隔山嘛，尤其还是芯片制造这种尖端精密技艺，他们要是能讲一遍就学会，那才真逆天了。
这时有一个人却疑惑举手：“刘工，我记得你之前说过涂光刻胶就等于是给硅片贴一层膜，可你现在又说要吹风，这不是自相矛盾吗？就算洁净室里没有灰尘，可里面要是出了气泡也同样很麻烦吧？”
被人举手提问，刘工不仅不恼火，反而很高兴，这说明他是真听进去了。
他看过去，果不其然是他们的领头人张本松。
“你说的不错，一旦光刻胶里产生了气泡，就会引发诸如过度刻蚀等一系列问题，但吹风同样也需要，而所有一切的关键，就是转速。”
刘工告诉张本松，不管是光刻胶的摊开扩散还是抹匀，以及最后的吹风，都需要和转速相配合，刘工在黑板上写下几个数字：“这是我自己总结出来的配合数字，当然这只能作为参考，具体你们需要在实际操作中自行摸索。”